4月25日上午在复旦大学恒隆物理楼138会议室，来自德国卡尔蔡司公司的高级系统总工程师Tilmann Heil为广大师生作题为“芯片制造中的纳米光刻技术”学术报告。信息学院光科系的徐敏教授主持本次报告会，来自光科系、信息学院以及其它院系的40余名师生出席本次报告会，徐敏教授致欢迎辞并介绍Tilmann Heil总工程师从事的研究工作。

Tilmann Heil 总工程师详细地介绍蔡司公司的情况和半导体行业的最新进展，探讨十年之后摩尔定律是否继续适用以及其中的科学问题。Tilmann Heil总工程师总结了近几十年来光刻技术发展的规律，指出极紫外（EUV）光刻技术是未来十年的主流光刻技术，分析纳米光刻技术对光学系统设计提出的重要挑战,特别是当纳米光刻技术制造的半导体器件尺寸降低到11纳米时，用于实现纳米光刻的极紫外（EUV）光学系统极其重要。在报告中，Tilmann Heil总工程师指出未来的纳光刻技术还有望突破衍射极限发展到8nm左右。

Tilmann Heil总工程师的报告通过大量的数据和精美的图表，深入浅出地将微纳光刻技术问题讲解得生动有趣，让广大师生不仅了解该方向最前沿的科研动态，也为与会科研人员提供了新的科研思路。Tilmann Heil总工程师还回答师生提出许多问题。本次会议会场气氛活跃，持续将近两个小时，最后在师生们热烈的掌声中圆满结束。

光科学与工程系 2012-05-02